Háború
2021-07-25T12:07:31+00:00
ASML的光刻机主要是集成度高加上全世界最好的子系统集成而来 但是小型化也限制了光源功率
到上一代193nmArF这种成熟激光器还勉强够用，这一代的激光激发LPP EUV光源的功率已经岌岌可危到整个镜组需要牺牲寿命来提高反射率的程度
要我说 国内芯片市场这么大 直接盖一个大型同步辐射光源好了 国内先进光源工程经验挺丰富的 一个光源少说供应几十个线站同时开工不成问题 有了大功率光源 相应的镜组 掩膜 光刻胶的技术指标都可以降低 只要搞定工件台就可以开工量产了
这玩意规模越大反而效率越高 挺适合我们国情的
[s:ac:哭笑]我也就图一乐
大家喷的开心就好
[img]http://img.nga.178.com/attachments/mon_201209/14/-47218_5052bc4cc6331.png[/img]如果敲键盘就可以的话国家早就搞了，科技树不是游戏加点，那是真的需要培养的啊
我觉得吧，你能想到的，那些攻关的人应该也都能想到。。。
[quote][pid=537241550,27858109,1]Reply[/pid] Post by [uid=743314]Darth[/uid] (2021-07-31 20:10):
我觉得吧，你能想到的，那些攻关的人应该也都能想到。。。[/quote]ASML因为不可能要求FAB一口气买几十台所以没用这个技术路线
另外现在的EUV是九十年代开始预研论证的 很多东西有技术路线惯性 不好转弯
我们又没这个历史包袱
重要的不是有没有
重要的是民用
资本主义伟大的地方在于普通民众能用上，因为这个玩意对富人装逼毫无用处
看楼主挺了解的说不定可行，一次性几十台光刻机也吃的下去[img]http://img.nga.178.com/attachments/mon_201209/14/-47218_5052bc4cc6331.png[/img]
你这个思路还真不是不可以
自由电子激光因为原理的缘故可以一口气做极紫外也没阻碍
然后无非就是功率大点规模大点的问题，只要你不想把它搬到别的地方去其实也不是什么问题
然后就是自动对准工作台的事情，这找隔壁精密机械去
[quote][pid=537242884,27858109,1]Reply[/pid] Post by [uid=62775396]牛棚里打牌[/uid] (2021-07-31 20:16):
看楼主挺了解的说不定可行，一次性几十台光刻机也吃的下去[img]http://img.nga.178.com/attachments/mon_201209/14/-47218_5052bc4cc6331.png[/img][/quote]我也就打打嘴炮
这玩意报项目 领导问一句 有没有人干过 你说没人干过 谁给批钱啊[s:ac:冷]
我不知道，但大力出奇迹起码也需要几 年，回头再看吧
如果只有一个光刻机没有相关的配套产业会不会跟华为一样直接卡脖子弄到死
楼主该吃药了，明天你还要研究反物质粒子，早点休息吧[s:a2:抢镜头]
我觉得你这个大力出奇迹的想法还不如弯道超车搞碳化硅忆阻器呢，说不定那个成本更低性能更好