我国国产 DUV 光刻机迎来里程碑式进步,套刻≤8nm

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直接说,最高上限能量产多少nm就得了
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Taco

加速加速!
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Shyamurai

落后技术,可以展示
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Oblivion

+ by [侯操] (undefined)
直接说,最高上限能量产多少nm就得了
这个是拿来生产28nm芯片的。
不计成本套刻最高是8nm。
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Shukurmino

套刻精度和制程精度有啥关系不?
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Derffy(◔ᗜ◔)

现在基本两步走
去美化
全中化

华为的技术代表去美化,所以比较保密
这个公布的代表的是全中化

另外老中都是公布一代,测试一代立项一代
期待明年的惊喜了
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Roddy

+ by [gamecat] (undefined)

套刻精度和制程精度有啥关系不?

文章里面解释了:“套刻精度就是常说的“多重曝光能达到的最高精度”,按套刻精度与量产工艺 1:3 的关系,这个光刻机大概可以量产 28nm 工艺的芯片。"套刻精度≤8nm大致的意思是做7nm左右工艺的芯片也是可以的。
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alimaxi090

+ by [旋二号机] (undefined)

现在基本两步走
去美化
全中化

华为的技术代表去美化,所以比较保密
这个公布的代表的是全中化

另外老中都是公布一代,测试一代立项一代
期待明年的惊喜了

是的,华为那个之所以保密也是为了保护还在美帝法西斯打击范围内的合作商。
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2Hot2Handle

+ by [启之舰去星云巅] (undefined)

是的,华为那个之所以保密也是为了保护还在美帝法西斯打击范围内的合作商。

不是华为自己的厂吗
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Dman

整个半导体技术理论是没什么新鲜东西,就是工艺上的问题,咱们追上世界一流水平只是时间问题。还是抓紧把核聚变搞出来吧,以后夏天开空调就不心疼电费了哭笑
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Badonlkadonk

这个是65nm节点用的干式DUV光刻机。在sadp下能做到32nm。更深的多重对准工艺 因为业界在45nm就转向浸没式光刻机了 所以没有先例可循

目前存量最大的是浸没式光刻机,用sadp能做到14nm。多重对准的话 在saqp工艺加持下坚持到了7nm节点 台积电n7和SMIC n+2都是这么凹出来的

反正就是未来可期吧 希望上微的浸没式duv尽快量产 技术上其实差的不多
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Step sis blinksy

+ by [MsyOS] (undefined)

整个半导体技术理论是没什么新鲜东西,就是工艺上的问题,咱们追上世界一流水平只是时间问题。还是抓紧把核聚变搞出来吧,以后夏天开空调就不心疼电费了哭笑

不能再同意了茶
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Apple_Juice

有B站up说mate70的U纯国产化了么,只是没到时候不能细说
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S𝕝𝘦𝘦𝖕𝔂 T𝚒𝔪𝑚𝕪 シ

理论极限就在这儿,要么比设计,要么比工艺

其实已经在东大擅长的节奏里了
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khanh trần

明眼人都看出来,芯片只是迟早问题了


第一是,现在的性能早就过剩了,达到8gen1的性能,然后功耗发热不翻车,就已经满足100%的应用使用场景和95%的啊游戏场景了。

第二是,芯片的制程,性能增长也已经到瓶颈了,38到16到7到5,可能是每两年一代,但是7到5到3已经逐渐越来越慢了,你说还要到2到1?


一和二加起来,最后的结果就是高通每年挤牙膏,而国内可见的从15到7到5快速发展,哪怕最后7打3也感知不强

最后,要阻止中国发展芯片应该从 ARM 授权就开始限制,和 x86一样,不在专利上限制,在设计和制造上是没法中国的,现在已经无力了
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Oil

不考虑良率 至少能做了
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SUBWAY

手机芯片其实是真的性能过剩了
手游这几年基本没什么发展了,未来几年也是,大家用手机游戏无非就是吃鸡王者类的,其他的应用APP性能更是过剩
这次华为的三折屏为什么惊艳,就是因为还算比较大的创新了,至于苹果么,手持13pro毫无换机的欲望
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Bob Marley

+ by [L-星门] (undefined)

不是华为自己的厂吗

但是很多机器设备和工艺材料还没有做到完全自主可控,所以需要保密。
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Pato21mg

突然想起了经常调侃国足的一句话:
留给美西方的时间不多了。