[氵] 对岸不用EUV光刻机就能搞出N7工艺，那我国的高精尖半导体制程还是很有希望嘛

Kafooie

2021-04-18T14:57:19+00:00

[img]https://img.nga.178.com/attachments/mon_202104/21/-7Q8gzn-bz0rK2pT3cSk3-sg.jpg[/img]
看科普说当初阿斯麦的EUV光刻机研发困难，延期交货，台积电照样能用普通的193DUV光刻机搞出n7工艺，因为他们用saqp四重对焦的方式只处理了Si部分，而电镀铜连线部分还是14nm水平的sadp双重对焦法，以此大大降低了研发难度

既然用不着劳什子euv，那我国把这个变成白菜应该是指日可待吧？如果该方法进一步扩展到Co连线部分的光刻，那制程可以达到6-5nm的水平，这个连intel都失败了[s:pg:满分]

SimplyDarkness

中芯目前已经做到了N8，就是用193DUV光刻机做的

Tjmaxmillion

有啥用？一样的美国技术。。。

Pandadoxical

DUV本来就可以做到7nm啊，现在好像是高精度基台没解决。

Verniy

[quote][pid=509867361,26429303,1]Reply[/pid] Post by [uid=62443638]奥里给万岁[/uid] (2021-04-21 23:22):

有啥用？一样的美国技术。。。[/quote]咋就成了美国技术。阿期麦也是几十个国家的一百多家公司搞出来的。
再说了，美国咋了，美国的就不能用了？
嘴硬和改善大家水平的同时自研那个好？中国也在搞光刻机。枝术不是慢慢积累？

Deleted User 61733475

能做是能做
但是良品率呢？

i dont want to be alive

多重曝光
可以做到
但是成本高啊然后良率也不行

朱自清

[quote][pid=509867361,26429303,1]Reply[/pid] Post by [uid=62443638]奥里给万岁[/uid] (2021-04-21 23:22):

有啥用？一样的美国技术。。。[/quote]先做工艺后换设备两者并不冲突

Somi

看知乎说SMEE的90nm做出来只是在吃灰，193nm Arf沉浸式DUV的也有可能吃灰。

Kafooie

Reply to [pid=509869602,26429303,1]Reply[/pid] Post by [uid=62757855]-铁流-[/uid] (2021-04-21 23:34)
Reply to [pid=509869861,26429303,1]Reply[/pid] Post by [uid=62492812]糖送八大家丷[/uid] (2021-04-21 23:35)
骁龙855和AMD锐龙3000系列都是台积电n7 duv的产物，也没听说什么良率爆炸啊[s:ac:呆]

对岸氵 WW此时应该怎么做才好呢 [805氵]看了书评总结，我就好奇明天对岸怎么分享经验了 [破事氵][二之国]随手转一些对岸的梗图 [氵]断更这个东西是不是真的有瘾 [天龙氵]段誉是不是就不能娶王语嫣乱氵断了施法者的施法能力会削弱多少绍宋氵，断章不可怕，断章+断更就可怕了 [玄鉴氵]断镞有变省流 [旧日氵] 这断章断得我好烦躁。

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