Jar_Of_The_Head
2020-05-15T10:22:26+00:00
我国60年代就曾布局过光刻机且技术先进，那时光刻机巨头ASML还没诞生，直到70年代，ASML仍是小字辈。
1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机，1970年，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。清华大学研制第四代分步式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
业界较为公认的第一台具备中国完全自主知识产权的现代光刻机——GK-3立项于70年代初期，并于1977年研制成功。通过当时的报道和技术文献获知，GK-3光刻机和当时发达国家的主流光刻机产品工艺差距在20年左右。
而1978~1981年的中科院109厂、878厂、1445所、上海钟表元件厂、上海无线电十四厂等单位也分别根据各自的生产、研发需求，成功试制了不少光刻机产品。它们提供了以80年代初期最新潮的电子计算器、电子表乃至数码相机(对你没看错)等或流行、或概念级的产品，此时的光刻机水准，离日本佳能、尼康的主流产品差距，也就只有4年左右。
1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机，1970年，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。清华大学研制第四代分步式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
业界较为公认的第一台具备中国完全自主知识产权的现代光刻机——GK-3立项于70年代初期，并于1977年研制成功。通过当时的报道和技术文献获知，GK-3光刻机和当时发达国家的主流光刻机产品工艺差距在20年左右。
而1978~1981年的中科院109厂、878厂、1445所、上海钟表元件厂、上海无线电十四厂等单位也分别根据各自的生产、研发需求，成功试制了不少光刻机产品。它们提供了以80年代初期最新潮的电子计算器、电子表乃至数码相机(对你没看错)等或流行、或概念级的产品，此时的光刻机水准，离日本佳能、尼康的主流产品差距，也就只有4年左右。