2nm已突破，1nm也没问题 台积电

台积电在2nm制程工艺上的突破，来自于采用了全新的GAA晶体管架构。区别于3nm和5nm制程所采用的鳍式场效晶体管(FinFET)架构，这次2nm改用了全新的多桥通道场效晶体管(MBCFET)架构，这一架构是以环绕闸极(GAA)制程为基础的架构，可以解决FinFETch因为制程微缩而产生的电流控制漏电等物理极限问题。

根据台积电在最近召开的“2020世界半导体大会”的官方说法，芯片制程工艺将继续推进，摩尔定律将在3nm、2nm、1nm上继续适用。根据目前透露的消息，2nm芯片的生产布局，将在台湾新竹进行建设和研发。

从产业共性上来说，仍然值得国内的厂商学习。在全球半导体产业合作风险充满变数的当下，练好内功，专注核心工艺技术的研发，将是在逆境中前行的不二心法。