Stqbby
2020-05-26T14:27:04+00:00
那种几纳米的精度是靠什么传动实现的啊！！！
光刻机是用的伺服电机加滚珠丝杆吗
ducktales
超细激光烧的啊…
DRxNightxError
其实二十年前传说中用针刻光盘的老头是真的
现在被抓起来关在光刻机里了
现在被抓起来关在光刻机里了
Stqbby
[quote][pid=426640704,21998732,1]Reply[/pid] Post by [uid=1018102]celeink[/uid] (2020-06-01 22:31):
超细激光烧的啊…[/quote]传动啊老哥，总要有中传动方式啊！
超细激光烧的啊…[/quote]传动啊老哥，总要有中传动方式啊！
ItsSloth
芯片表面涂一层高分子材料，用激光照射，照射部分高分子发生胶连，先洗去未胶连高分子，再对芯片裸露部分进行蚀刻，最后再洗去胶连高分子
HexRock
你当是线切割呢？
ItsSloth
[quote][pid=426641621,21998732,1]Reply[/pid] Post by [uid=9816267]小嘴软软[/uid] (2020-06-01 22:36):
传动啊老哥，总要有中传动方式啊！[/quote]不需要传动，激光先打到画好线路图的模板上，透过模板再聚焦到芯片上
传动啊老哥，总要有中传动方式啊！[/quote]不需要传动，激光先打到画好线路图的模板上，透过模板再聚焦到芯片上
Nesquik
确实很牛，不知道原理
Xabi
我猜和角度有关
通过复杂的光路设计，实现光源移动一米，光斑只移动一毫米，就和杠杆原理一样，一边杠短一边杠长
类似你拿个手电筒往远处照，你手一挥几十厘米，到远处照亮的地方就移动了几百米，这个过程反过来而已。
通过复杂的光路设计，实现光源移动一米，光斑只移动一毫米，就和杠杆原理一样，一边杠短一边杠长
类似你拿个手电筒往远处照，你手一挥几十厘米，到远处照亮的地方就移动了几百米，这个过程反过来而已。
Stqbby
[quote][pid=426642588,21998732,1]Reply[/pid] Post by [uid=8346686]gerald2008a[/uid] (2020-06-01 22:41):
不需要传动，激光先打到画好线路图的模板上，透过模板再聚焦到芯片上[/quote]我看下面那个托板也在一直动啊，移动位置啊！
不需要传动，激光先打到画好线路图的模板上，透过模板再聚焦到芯片上[/quote]我看下面那个托板也在一直动啊，移动位置啊！
Andyroo
[quote][tid=21998732]Topic[/tid] Post by [uid=9816267]小嘴软软[/uid] (2020-06-01 22:29):
那种几纳米的精度是靠什么传动实现的啊！！！[/quote]掩膜 控制曝光和阴影
那种几纳米的精度是靠什么传动实现的啊！！！[/quote]掩膜 控制曝光和阴影
Lane
电机的话用的是平面电机，伺服电机滚珠丝杆控制精度太差了。
实验室有师兄在做这个，Y字型组合三个直线电机，可以实现xy方向平面移动和平面绕z轴旋转，z方向有磁悬浮和气浮两种方式[s:ac:闪光]
不过只靠电机也不行，还有光学什么，那方面我就不懂了，这个电机应该是你说的那个基座移动方面用的
实验室有师兄在做这个，Y字型组合三个直线电机，可以实现xy方向平面移动和平面绕z轴旋转，z方向有磁悬浮和气浮两种方式[s:ac:闪光]
不过只靠电机也不行，还有光学什么，那方面我就不懂了，这个电机应该是你说的那个基座移动方面用的
UncleBoy
紫外线照射。
jswzy
楼主问的没问题吧，我记得光刻机有一个很难得就是激光的时候下面托盘高速移动和定位的问题，应该是非常精密的移动设备。
Darthnupe😡
[quote][pid=426643130,21998732,1]Reply[/pid] Post by [uid=9816267]小嘴软软[/uid] (2020-06-01 22:44):
我看下面那个托板也在一直动啊，移动位置啊！[/quote]那个叫对准精度(overlay)，晶圆上是一块块图形重复的，重复对准精度和线宽不一样，线宽是完全看光罩或聚焦(focus)精度的。
我看下面那个托板也在一直动啊，移动位置啊！[/quote]那个叫对准精度(overlay)，晶圆上是一块块图形重复的，重复对准精度和线宽不一样，线宽是完全看光罩或聚焦(focus)精度的。
Stqbby
[quote][pid=426643778,21998732,1]Reply[/pid] Post by [uid=396835]militereich[/uid] (2020-06-01 22:47):
那个叫对准精度(overlay)，晶圆上是一块块图形重复的，重复对准精度和线宽不一样，线宽是完全看光罩或聚焦(focus)精度的。[/quote]就是这个移动是靠什么来保证精度的？太好奇了。。
那个叫对准精度(overlay)，晶圆上是一块块图形重复的，重复对准精度和线宽不一样，线宽是完全看光罩或聚焦(focus)精度的。[/quote]就是这个移动是靠什么来保证精度的？太好奇了。。
ElecDev
[quote][pid=426652763,21998732,1]Reply[/pid] Post by [uid=9816267]小嘴软软[/uid] (2020-06-01 23:33):
就是这个移动是靠什么来保证精度的？太好奇了。。[/quote]光刻机核心技术就俩，一个是光源，另一个就是你说的双工件平台，就是托着wafer 动的那个，这个具体原理我也不清楚。
就是这个移动是靠什么来保证精度的？太好奇了。。[/quote]光刻机核心技术就俩，一个是光源，另一个就是你说的双工件平台，就是托着wafer 动的那个，这个具体原理我也不清楚。
Prophesyy.
压电陶瓷也可以吧，PI的最高精度可以达到几个埃了。
Miyuui
我一直以为是通过改变波长改变折射角度来移动的[s:a2:不明觉厉]