Kafooie
2020-05-10T01:54:43+00:00
包括镜头光源什么的。光刻胶之类的化工材料我们应该还生产不了吧。
英特尔的10nm是在没有EUV光刻机的条件下硬搞出来的，所以193nmDUV完全能用到10nm/8nm。台积电的7nm也只有最后几道工序会用到EUV
英特尔的10nm是在没有EUV光刻机的条件下硬搞出来的，所以193nmDUV完全能用到10nm/8nm。台积电的7nm也只有最后几道工序会用到EUV
中国现在能生产193nmDUV光刻机吗
SaFKa
台积电三种工艺只有n7+用到了euv n7和n7p还是duv
Kyle Anderson fan
SMEE(上海微电子)计划2021年交付首台国产的28nm的immersion光刻机，和世界上最先进的ASML公司仍然具有20年左右的差距(20年后可能和ASML水平持平)。虽然有差距，但是几百人的研发队伍一直在努力。
xlizzi
[quote][pid=423105206,21806614,1]Reply[/pid] Post by [uid=383519]simbaking[/uid] (2020-05-19 10:55):
SMEE(上海微电子)计划2021年交付首台国产的28nm的immersion光刻机，和世界上最先进的ASML公司仍然具有20年左右的差距(20年后可能和ASML水平持平)。虽然有差距，但是几百人的研发队伍一直在努力。[/quote]交不了，因为这个档次的光刻机内部一堆欧美部件
SMEE(上海微电子)计划2021年交付首台国产的28nm的immersion光刻机，和世界上最先进的ASML公司仍然具有20年左右的差距(20年后可能和ASML水平持平)。虽然有差距，但是几百人的研发队伍一直在努力。[/quote]交不了，因为这个档次的光刻机内部一堆欧美部件
Trigs
好像最好的纯国产是90nm
John✖
上微28nm光刻预计提前到年底，有生产11nm制程的能力。193nm国产商用光源18年就有了。
[img]https://img.nga.178.com/attachments/mon_202005/19/c4Q5-9cocZfT3cSal-1ec.jpg[/img]
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Eclihpse
光刻机只是半导体生产设备之一。。。