wookiecookie23
2021-09-20T08:23:01+00:00
[url]https://new.qq.com/rain/a/20210925A05BHG00[/url]
2021年9月18日，上海微电子举行新产品发布会，宣布推出SSB520型新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。据上微电子官网信息显示，新一代封装光刻机品投影物镜系统全面升级，可满足0.8μm分辨率光刻工艺需求，极限分辨率可达0.6μm；通过升级运动、量测和控制系统，套刻精度提升至≤100nm，并能保持长期稳定性。
同时，上海微电子预计会在2021年年底交付采用ARF光源制程工艺的28nm光刻机。此光刻机在经过多次曝光之后，可生产出11nm制程芯片。此前上海微电子可量产光刻机受困于90nm制程达四年之久，如若成功交付28nm光刻机，将打破光刻机国际巨头ASML公司常年对成熟和先进制程领域的技术封锁。
2021年9月18日，上海微电子举行新产品发布会，宣布推出SSB520型新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。据上微电子官网信息显示，新一代封装光刻机品投影物镜系统全面升级，可满足0.8μm分辨率光刻工艺需求，极限分辨率可达0.6μm；通过升级运动、量测和控制系统，套刻精度提升至≤100nm，并能保持长期稳定性。
同时，上海微电子预计会在2021年年底交付采用ARF光源制程工艺的28nm光刻机。此光刻机在经过多次曝光之后，可生产出11nm制程芯片。此前上海微电子可量产光刻机受困于90nm制程达四年之久，如若成功交付28nm光刻机，将打破光刻机国际巨头ASML公司常年对成熟和先进制程领域的技术封锁。