MingChenHzu
2021-06-09T12:37:16+00:00
中科院：光刻技术得到重大发展
6月10日，中国科学院官网刊文称，上海光机所在计算光刻技术研究方面取得重要进展。
中科院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室，提出一种基于虚拟边(Virtual Edge)与双采样率像素化掩模图形(Mask pixelation with two-phase sampling)的快速光学邻近效应修正技术(Optical proximity correction, OPC)。仿真结果显示，这技术具有较高的修正效率。
随着集成电路图形的特征尺寸不断减小，光刻系统的衍射受限属性导致明显的光学邻近效应，降低了光刻成像质量。
在光刻机软硬件不变的情况下，采用数学模型和软件算法对照明模式、掩模图形与工艺参数等进行优化，可有效提高光刻分辨率、增大工艺窗口，此类技术即计算光刻技术(Computational Lithography)，被认为是推动集成电路芯片按照摩尔定律继续发展的新动力。
快速光学邻近效应修正技术(Optical proximity correction, OPC)通过调整掩模图形的透过率分布修正光学邻近效应，从而提高成像质量。基于模型的OPC技术是实现90nm及以下技术节点集成电路制造的关键计算光刻技术之一。
行业相关，方向窄圈子小，匿了。
计算光刻是先进制程必不可少的步骤，作用就是通过仿真软件，对曝光的过程进行模拟，目的是优化光源和掩膜版，来获得更好的光刻效果。
这一技术早在成熟制程就开始发挥作用，如果没有这一技术(被卡脖子的话)，连28nm制程都是无法保证的。在先进制程上更是无比重要，无它寸步难行。
目前几大计算光刻厂商全部来自美国，除了先进厂商自研的技术(比如台积电)。这个新闻就是说国产在研发阶段实现了0到1，实际技术还差的很远，但是已经从无到有了。
顺便说一句，计算光刻在去年的禁令里面被美国明文规定，不得向中国出售EUV相关技术。换句话说，即时现在中国有EUV光刻机硬件，也无法通过仿真这一步，别说真正流片了。那些说软件没有硬件有用的，省省吧。
不懂求科普。如果看字面意思，大概是用低精度的机器实现了高精度的活
[img]http://img.nga.178.com/attachments/mon_201209/14/-47218_5052bc8638067.png[/img]我只看到了90nm
[quote][pid=523809322,27167203,1]Reply[/pid] Post by [uid=1379881]御风ing[/uid] (2021-06-11 21:17):
不懂求科普。如果看字面意思，大概是用低精度的机器实现了高精度的活[/quote]也不是，这个就是光刻必不可少的一步，几十nm就绕不开了。国内厂目前的实现都是通过购买国外软件。
[quote][pid=523809582,27167203,1]Reply[/pid] Post by [uid=61592286]OnMyWay2948[/uid] (2021-06-11 21:18):
[img]http://img.nga.178.com/attachments/mon_201209/14/-47218_5052bc8638067.png[/img]我只看到了90nm[/quote]我想结尾那句话的意思是，90nm以下就必须要用到OPC了，而不是目前的技术只能用于90nm。
[quote][pid=523809907,27167203,1]Reply[/pid] Post by 乙陶栾乙吴佘(5楼) (2021-06-11 21:20):
也不是，这个就是光刻必不可少的一步，几十nm就绕不开了。国内厂目前的实现都是通过购买国外软件。[/quote]那我想问一个很傻比的问题，在这种微观尺度下，还考虑量子力学的东西么。。。。比如说有些光吧唧一下飞到天边去了把晶圆刻坏了什么的
[quote][pid=523810973,27167203,1]Reply[/pid] Post by [uid=1379881]御风ing[/uid] (2021-06-11 21:25):
那我想问一个很傻比的问题，在这种微观尺度下，还考虑量子力学的东西么。。。。比如说有些光吧唧一下飞到天边去了把晶圆刻坏了什么的[/quote]光学临近效应还属于经典光学，或者电磁学的范畴，还不用考虑量子效应。
有一个效应接近你的描述，就是极紫外的随机效应。这个已经开始在最先进的计算光刻软件中考虑了。
[quote][pid=523811176,27167203,1]Reply[/pid] Post by [uid=60262789]viewsonicKKK[/uid] (2021-06-11 21:26):
我就看到了仿真，这玩意儿跟实战差距大吗[/quote]打个比方，传统飞机制造需要在风洞中模仿实际飞行，但是现在的软件可以连风洞都省了。飞机改个机翼，甚至改个螺丝，软件动动手，几个小时就可以验证了。
那传统的办法，改个一点点位置，要把飞机真的造出来，然后拿去风洞验证。几个月的时间就没了，错了只能从头再来。
光刻也是如此。
[quote][pid=523813262,27167203,1]Reply[/pid] Post by [uid=-1]乙陶栾乙吴佘[/uid](10楼) (2021-06-11 21:38):
打个比方，传统飞机制造需要在风洞中模仿实际飞行，但是现在的软件可以连风洞都省了。飞机改个机翼，甚至改个螺丝，软件动动手，几个小时就可以验证了。
那传统的办法，改个一点点位......[/quote]也就是说现在有软件可以测试光刻水平了，希望祖国早日能实现这项奇迹工程！
[quote][pid=523809052,27167203,1]Reply[/pid] Post by 乙陶栾乙吴佘(2楼) (2021-06-11 21:15):
行业相关，方向窄圈子小，匿了。
计算光刻是先进制程必不可少的步骤，作用就是通过仿真软件，对曝光的过程进行模拟，目的是优化光源和掩膜版，来获得更好的光刻效果。
这一技术早在成熟制程就开始发挥作用，如果没有这一技术(被卡脖子的话)，连28nm制程都是无法保证的。在先进制程上更是无比重要，无它寸步难行。
目前几大计算光刻厂商全部来自美国，除了先进厂商自研的技术(比如台积电)。这个新闻就是说国产在研发阶段实现了0到1，实际技术还差的很远，但是已经从无到有了。
顺便说一句，计算光刻在去年的禁令里面被美国明[/quote]顺便，其实可以期待华为一点。华为已经开始布局做了，没有官宣，但在行业内已经不是秘密。[s:ac:茶]
嘉定的研究所，以前作为供应商去过一次，饭菜贼豪华
作为嘉定本地人，成年了才知道这几个所有多厉害
[quote][pid=523816725,27167203,1]Reply[/pid] Post by 乙陶栾乙吴佘(12楼) (2021-06-11 21:58):
顺便，其实可以期待华为一点。华为已经开始布局做了，没有官宣，但在行业内已经不是秘密。[s:ac:茶][/quote]感谢大佬[s:ac:喘]
[quote][pid=523813262,27167203,1]Reply[/pid] Post by 乙陶栾乙吴佘(10楼) (2021-06-11 21:38):
打个比方，传统飞机制造需要在风洞中模仿实际飞行，但是现在的软件可以连风洞都省了。飞机改个机翼，甚至改个螺丝，软件动动手，几个小时就可以验证了。
那传统的办法，改个一点点位置，要把飞机真的造出来，然后拿去风洞验证。几个月的时间就没了，错了只能从头再来。
光刻也是如此。[/quote]别几把扯了。什么老古董理论了。我国哪怕落后从80年代开始就开始仿真了。
你不会真以为仿真能解决一切问题吧？仿真也是程序，程序就是人设定的参数，当有些时候没有遇到的问题仿真就解决不了。这也是飞机为什么要吹风洞，芯片为什么要流片的原因。
计算光刻市占第一的是阿斯麦的子公司brion，深圳就有个研发中心，今年刚被华为挖了一大批人
以我粗浅的知识说点人话科普
在这个尺度下，光线照射到物体表面上会形成无法忽略的光斑，宏观上看见的光斑其实是由很多束光组成的，不要搞混了
而这个光斑的尺寸(主要我也忘了是半径还是直径了)决定了分辨极限
现在这个技术，能够在不提升光学仪器本身性能的前提下提高分辨率
以上
[quote][pid=523819097,27167203,1]Reply[/pid] Post by [uid=19515537]sfxc2008[/uid] (2021-06-11 22:11):
别几把扯了。什么老古董理论了。我国哪怕落后从80年代开始就开始仿真了。
你不会真以为仿真能解决一切问题吧？仿真也是程序，程序就是人设定的参数，当有些时候没有遇到的问题仿真就解决不了。这也是飞机为什么要吹风洞，芯片为什么要流片的原因。[/quote]这么激动干嘛？[s:ac:茶]
仿真当然不能解决一切，仿真也是要通过实际流片验证和不断修正的。
芯片的验证可以说某种程度上比飞机更难，因为那么小的面积，数以亿计的微电路，即时通过最好的扫描成像设备，也无法面面俱到。
几亿个微电路器件，坏了几百个(也可能是几万个)，在微米级别的范围内去寻找。如果没有软件的仿真和预测能力，就是永无止境的成本。
至于你说的国内80年代早就有了，倒是没有听说过，这个技术是世纪初才大规模应用的呀。